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2023-02-17

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级.晶粒越细小则晶界面积越大,对性能的影响也越大.对于同一种靶材.晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快:而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶测射沉积的溥膜的厚度分布更均匀.据研究发现,若将钛靶的晶粒尺寸控制在100um以下,且晶粒大小的变化保持在20%以内,其溅射所得的薄膜的质量可得到大幅度的改善

2023-02-16

一文读懂半导体材料

晶体结构晶体可分为单晶和多晶.若在整块材料中,原子都是规则的、周期性的重复排列的.一种结构贯穿整体,这样的晶体称为单晶,如石英单晶硅单晶岩盐单晶等,多品是由大量微小的单品随机堆砌成的整块材料实际的品体绝大部分是多晶,如各种金属材料和电子陶瓷材料.由于多晶中各晶粒排列的相对取向各不相同,其宏观性质往往表现为各向同性.外形也不具有规则性

2023-02-14

单一蒸发源膜厚分布的均匀性

光学薄膜厚度的均匀性是薄膜制备的一项重要指标,它影响着光学元件的光谱特性,并决定着能达到要求的实际有效镀膜面积.同时,它也是衡量镀膜装置性能的一项重要指标.膜厚均匀性是指在基片不同位置或随着基片位置的改变.所沉积的膜厚的变化情况 .对于高精度、高性能的光学系统,或大口径的光学元件和批量生产的光学元件,膜厚的均匀分布至关重要。

2023-02-13

光学镀膜的化学方法

镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一.这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺,从原理上了解这些工艺的异同.

2023-02-06

蒸镀的加热方式

加热方式分为: (1)电阻加热:(2)感应加热:(3)电子束加热:(4)雷射加热:(5)电弧加热各自具有的特点:?

2023-01-30

真空蒸镀可应用产业

要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀等方面,现就比较常见者分述如下

2023-01-29

为什么真空镀膜可以做成半透效果而且不导电

真空镀膜并非完全不导电，利用了分子在薄膜状态下的不连续性金属或金属化合物都具有导电性，只是导电率不同。但是，当金属或金属化合物呈一种浦膜的状态时，其相应的物理特性会有所不同，常规的镀膜材料中，如:银是银白效果和导电性能最好的金属，但它厚度在5纳米以下时，它是不导电的;铝的银白效果和导电性比银稍微差一些，但它厚度在0.9纳米时，就已经具备导电性。

2022-12-26

影响磁控溅射均匀性的因素

磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标，因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素，以更好的实现磁控溅射均匀镀膜，

2022-12-26

磁控溅射中靶中毒是怎么回事

磁控溅射原理电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。武离子在电场的作用下加速轰击靶材，测射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。一次电子在加速飞回基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠诉靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。