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2023-05-10
介质膜和金属膜的区别
介质膜 介质膜不导电,利用菲涅尔公式,通过一定折射率的材料,加上等倾干涉的条件,实现反射波相长,从而获得较大的反射率.具有干涉效应,具有随波长或厚度的变化而呈现周期性变化的性质.长波区域薄膜的特性比短波区域有所减弱.
2023-05-08
磁控溅射镀膜设备的工作原理
磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的"溅射现象"说起,人们由起初发觉"溅射现象"发展至"溅射镀膜"此间历经了相当长的发展时间,溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了.不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究,认为这种现象是有害的.
2023-05-06
蒸镀的加热方式
加热方式分为: (1)电阻加热;(2)感应加热;(3)电子束加热;(4)雷射加热;(5)电弧加热.
2023-05-05
不同蒸发源的优缺点
电阻加热蒸发源 优点: 1.结构简单、使用方便、造价低廉,因此使用普遍;2.可蒸发蒸发温度小于1500℃的铝、金、银等金属,蒸发一些硫化物、氟化物和某些氧化物. 要求: 1.蒸发源材料的自身熔点要高; 2.饱和蒸汽压要低; 3.化学性能要稳定,且具有良好的耐热性,热源变化时,功率密度变化较小;4.蒸发源对膜材料的"湿润性"好. 电子束加热蒸发源
2023-05-04
ITO透明导电薄膜发展历程
透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)是一种在可见光光谱范围(380nm < λ < 780nm)透过率很高且电阻率较低的薄膜材料.TCO薄膜材料主要有CdO、In2O3、SnO2和ZnO等氧化物及其相应的复合多元化合物半导体材料.
2023-04-23
薄膜内应力产生因素
磁控溅射镀膜中,薄膜由于各种原因会产生内应力,不将其控制在合理的范围内会导致薄膜脱落等负面情况,大大减少使用寿命.内应力通常由于产生因素不同,会出现‘拉应力’和‘压应力’两种情况.由于内应力产生因素较多且镀膜种类方式均有不同,本文对其产生因素做一个简单概述,方便读者在实际工作分析时有一个初步的判断. 应力的定义
2023-04-23
磁控溅射镀膜技术的物理过程
溅射气体离子轰击靶材引起靶材原子溅射 溅射原子在背景气体中的输运过程 溅射原子到达衬底后沉积过程 由于原子生长等对于成膜质量比较关键,因此沉积过程为下文主要介绍方向.
2023-04-23
薄膜沉积—磁控溅射法
磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用,本文以作者浅薄理解为基础,磁控溅射镀膜技术为例,从以下几个方面带读者进行一个初步了解图片.
2023-04-23
磁控溅射工艺参数--衬底偏压
磁控溅射镀膜技术中,工艺参数对镀膜质量的影响非常大,涉及知识面广,变量多也是主要难题之一,本模块的内容呢就是每次分享一种工艺参数的学习心得,积少成多~本文介绍的是‘偏置电压’在镀膜过程中的影响.
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