知识科普-北京研诺信诚科技有限公司

2023-05-10

介质膜介质膜不导电,利用菲涅尔公式,通过一定折射率的材料,加上等倾干涉的条件,实现反射波相长,从而获得较大的反射率.具有干涉效应,具有随波长或厚度的变化而呈现周期性变化的性质.长波区域薄膜的特性比短波区域有所减弱.

2023-05-08

磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的"溅射现象"说起,人们由起初发觉"溅射现象"发展至"溅射镀膜"此间历经了相当长的发展时间,溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了.不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究,认为这种现象是有害的.

2023-05-06

蒸镀的加热方式

加热方式分为: (1)电阻加热;(2)感应加热;(3)电子束加热;(4)雷射加热;(5)电弧加热.

2023-05-05

不同蒸发源的优缺点

电阻加热蒸发源优点: 1.结构简单、使用方便、造价低廉,因此使用普遍;2.可蒸发蒸发温度小于1500℃的铝、金、银等金属,蒸发一些硫化物、氟化物和某些氧化物. 要求: 1.蒸发源材料的自身熔点要高; 2.饱和蒸汽压要低; 3.化学性能要稳定,且具有良好的耐热性,热源变化时,功率密度变化较小;4.蒸发源对膜材料的"湿润性"好. 电子束加热蒸发源

2023-05-04

ITO透明导电薄膜发展历程

透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)是一种在可见光光谱范围(380nm < λ < 780nm)透过率很高且电阻率较低的薄膜材料.TCO薄膜材料主要有CdO、In2O3、SnO2和ZnO等氧化物及其相应的复合多元化合物半导体材料.

2023-04-23

薄膜内应力产生因素

磁控溅射镀膜中,薄膜由于各种原因会产生内应力,不将其控制在合理的范围内会导致薄膜脱落等负面情况,大大减少使用寿命.内应力通常由于产生因素不同,会出现‘拉应力’和‘压应力’两种情况.由于内应力产生因素较多且镀膜种类方式均有不同,本文对其产生因素做一个简单概述,方便读者在实际工作分析时有一个初步的判断. 应力的定义

2023-04-23

磁控溅射镀膜技术的物理过程

溅射气体离子轰击靶材引起靶材原子溅射溅射原子在背景气体中的输运过程溅射原子到达衬底后沉积过程由于原子生长等对于成膜质量比较关键,因此沉积过程为下文主要介绍方向.

2023-04-23

薄膜沉积—磁控溅射法

磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用,本文以作者浅薄理解为基础,磁控溅射镀膜技术为例,从以下几个方面带读者进行一个初步了解图片.

2023-04-23

磁控溅射工艺参数--衬底偏压

磁控溅射镀膜技术中,工艺参数对镀膜质量的影响非常大,涉及知识面广,变量多也是主要难题之一,本模块的内容呢就是每次分享一种工艺参数的学习心得,积少成多~本文介绍的是‘偏置电压’在镀膜过程中的影响.