常见问题-北京研诺信诚科技有限公司

2023-02-09

使用机械的、机电的、热力的方法来产生形成固态薄膜.通常是物理气相沉积的方法Physical vapor deposition(PVD).以下是常见的物理镀膜工艺:

2023-02-07

新型功能陶瓷材料是以电、磁、光、声、热、力学、化学或生物功能等的介质材料.功能陶瓷材料种类繁多。用途广泛,主要包括铁电、压电、介电、热释电、半导体、电光和磁性等功能各异的新型陶瓷材料。

2023-02-07

ITO靶材主要有四种成型方法真空热压--真空热压法是利用热能和机械能使陶瓷材料致密化的工艺,可生产密度为91%~96%的高密度ITO 陶瓷靶材,

2023-01-17

PVD基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)，以下介绍几种常用的方法，

2023-01-11

新型的溅镀设备几平都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用 RF交流溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材

2022-12-20

磁控溅射镀膜中,溥膜由于各种原因会产生内应力,不将其控制在合理的范围内会导致薄膜脱落等负面情况.大大减少使用寿命.内应力通常由于产生因素不同,会出现'拉应力’和'压应力'两种情况.由于内应力产生因素较多目镀膜种类方式均有不同,本文对其产生因素做一个简单概述方便读者在实际工作分析时有一个初步的判新

2022-12-20

磁控测射法具有设备简单，镀膜面积大，其面升温缓慢以及成本相对较低的特点在科研领域得到了广泛的应用,本文以作者浅薄理解为基础,磁控溅射镀膜技术为例,

2022-12-20

磁控溅射镀膜技术中,工艺参数对镀膜质量的影响非常大,涉及知识面广,变量多也是主要难题之一,本模块的内容呢就是每次分享一种工艺参数的学习心得,积少成多~本文介绍的是'偏置电压’在镀膜过程中的影响

2022-12-19

磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术,该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内.溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀,释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜