PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应

离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)，以下介绍几种常用的方法，

电子束蒸发

电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。

特征:直空环境;蒸发源材料需加热熔化:基底材料也在较高温度中:用磁场控制艺发的气体，从而

控制生成镀膜的厚度。

溅射沉积

溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多，有直流溅射、RF溅射和反应溅

射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。

特征:在真空室内充入放电所需要的惰性气体(如氩气)，在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量

正离子。带电离子被强电场加速，便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料(称为靶)。在离子轰击下，蒸发源

材料的原子将离开固体表面，以高速度溅射到基片上并沉积成清膜，

RF(射频)溅射

RF溅射使用的频率约为13.56MHz，它不需要热阴极，能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF

溅射不仅可以沉积金属膜，而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜，因而使用范围较广。

电弧离子镀

阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉

积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

过滤阴极弧

过源阴极电引(FCA)配有高效的电磁过滤系统，可将弧源产生的等离子体中的宏观大颗粒过源损，因

此制备的演膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。

离子束

离子束加工是在直空条件下，先由电子枪产生电子束，再引入已抽成真空目充满惰性气体之电离室

中，使低压借性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速，集束等步骤，获得具有一定速度的离子投射到

材料表面，产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比

电子克具有更大的撞击动能，是靠微观的机械撞击能量来加工的。