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2023-07-13
影响真空镀膜性能的因素有哪些
1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响 2、基片温度对蒸发涂层的影响 3、真空室内残余气体压力对膜层性能的影响 4、蒸发温度对蒸镀涂层的影响 5、基体与镀膜室的状态对涂层性能的影响
2023-07-12
一文了解氮化铝陶瓷
氮化铝(AlN)是一种综合性能优良的新型陶瓷材料,具有优良的热传导性,可靠的申绝缘性,低的介电常数和介电损耗.无毒以及与硅相匹配的热膨胀系教等一系列优良特性.被认为是新-代高集程度半导体基片和电子器件封装的理想材料
2023-07-11
坩埚的用途和分类
一、坩埚是什么? 二、坩埚的使用方法 三、坩埚的主要用途 四、坩埚的分类:
2023-07-07
一文看懂电子束与离子束加工工艺
电子束加工和离子束加工是近年来得到较大发展的新型特种加工.他们在精密微细加工方面,尤其是在微电子学领域中得到较多的应用.通常来说,电子束加工主要用于打孔、焊接等热加工和电子束光刻化学加工,而离子束加工则主要用于离子刻蚀、离子镀膜和离子注入等加工。
2023-07-05
不同坩埚在实验室怎么用
坩埚是化学仪器的重要组成部分,它是熔化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器,是保证化学反应顺利进行的基础.那么不同的坩埚,又将如何使用呢?
2023-07-04
陶瓷靶材介绍
陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广泛,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域.陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展。
2023-07-03
磁控溅射靶材镀膜过程中,影响靶材镀膜沉积速率的3个因素
磁控溅射是一种物理气相沉积方法,它可以通过使用施加到二极管溅射靶上的特殊形成的磁场来沉积各种材料,包括金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材等.沉积速率或成膜速率是衡量磁控溅射机效率的重要参数.
2023-06-30
多弧离子反应镀膜设备可镀色彩
多弧离子反应镀膜设备可镀色彩有16种
2023-06-29
各种靶材对应的PVD镀膜颜色
选择靶材种类、材质和气体(氮气、氧气、乙炔、甲烷、氩气等),确定靶材及气体种类,然后调整气体比例、用量、溅射功率、溅射时间、基材处理温度、溅射温度、溅射时间等工艺参数,制备出颜色膜层,广泛应用于装饰性镀膜行业
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