溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布.产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节

终端应用环节是整个产业链中规模最大的领域,包括半导体芯片、平板显示器、太阳能电池等领域原材料纯度是影响滇膜材料性能的关键因素,高纯金属原材料是靶材生产制造的基础。

高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯,在实际应用中,通常使用多种物理、化学手段联合提纯实现高纯材料

的制备.

我国虽然拥有丰富的有色金属矿产资源,但我国高纯金属制备技术与国外相比仍存在一定差距,高纯金属有较

大比重需从国外进口。

下游不同应用领域对于所需溅射靶材的要求不一.比如:半导体芯片对测射靶材的金属材料纯度、内部微观结

构等方面都设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求

的产品,因此,半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的,价格也最为昂贵。

相比之下,平板显示器、太阳能电池对于溅射靶材的纯度和技术要求略低一筹,但随着靶材尺寸的增大.对溅射

靶材的焊接结合率，平整度等指标提出了更高的要求。